拓荆科技冲刺IPO：盈利困境怎么破？

7月12日，证监会官网披露了拓荆科技股份有限公司拟沪市科创板的招股书。北方华创或迎来强劲对手，芯片制造设备国产替代的队伍也在不断扩大。

此次IPO，拓荆科技拟募集资金10亿元，其中3.99亿元和2.71亿元用于先进半导体设备的技术研发与改进项目和ALD设备研发与产业化项目，其余资金用于高端半导体设备扩产项目及补充流动资金。

《商讯·公司金融》注意到，拓荆科技作为芯片制造设备商，在国内半导体制造领域拥有一定的优势，但拓荆科技持续高研发投入下，利润始终未见转正。这也说明了，在解决我国遭遇的芯片”卡脖子“问题上的难度。

营收增长迅速

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，其设备主要包括等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）、原子层沉积设备（ALD）和次常压化学气相沉积设备（SACVD）三大类，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已开展10nm及以下制程产品验证测试。

其实，拓荆科技主要产品是半导体薄膜沉积设备、光刻机、刻蚀机，是芯片制造的三大核心设备。据了解，拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，产品累计发货超150套机台，有效降低国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖，加速替代。目前，随着“芯片荒”的持续，全球半导体厂商持续扩产，半导体设备制造公司有望持续受益。

不过，招股书显示，报告期内，虽然拓荆科技的经营业绩逐年增长，但仍未能摆脱持续亏损的境地。

2018-2021年3月份，拓荆科技分别实现营业收入7064.40万元、25125.15万元、43562.77万元和5774.10万元。2018-2020年度复合增长率为 148.32%，实现高速增长。

营收增长了，并不意味着赚到了钱。拓荆科技2018－2021年3月，归属净利润分别为-10322.29万元、-1936.64万元、-1148.90万元和-1032.66万元，扣除非经常性损益后归属于母公司股东的净利润分别为-14993.05万元、-6246.63万元、-5711.62万元和-2400.90万元，亏损呈现逐年收窄的趋势。

利润亏损的原因，《商讯·公司金融》注意到，拓荆科技的期间费用较高，在一定程度上侵占了净利润。

报告期内，拓荆科技的期间费用分别为16757.17万元、13942.23万元、20670.95万元、4173.55万元，占营业收入的比例分别为 237.21%、55.49%、47.45%和72.28%。

2018年-2020年，拓荆科技的期间费用率随着营业收入的上升而逐年下降。2021年1-3月，其期间费用占营业收入的比例较2020年度上升，主要由于其所处半导体设备行业一季度收入较少，使得期间费用率上升。

另外，报告期内，拓荆科技拥有较大力度的政府补助。2018-2021年3月份，拓荆科技收到的政府补助款项分别为4221.41万元、3686.86万元、25114.58万元和180.03万元，占各期经营活动现金流入小计的19.79%、13.50%、27.61%和1.10%。计入其他收益的政府补助金额分别为4691.53万元、4326.27万元、5096.14万元、1427.83万元，占当期营业收入的比重分别为66.41%、17.22%、11.70%和24.73%。若未来政府补助力度减弱，拓荆科技的业绩将进一步受到影响。

高研发投入，侵蚀利润

由于半导体设备制造行业初期投入要求极高，不仅需要资金持续投入，技术储备也是要求相当高。难怪，拓荆科技获得了国家集成电路基金（以下称大基金）、中微公司、国投上海、苏州聚源等众多知名资本、企业的资金投入。目前，大基金为第一大股东，持股26.4833%。

报告期内，拓荆科技的研发费用分别为10797.31万元、7431.87万元、12278.18万元和2714.86万元，占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。研发费用金额较高和占营业收入的比例较大，是拓荆科技亏损主要原因。

与同行业相比，报告期内，拓荆科技的研发费用率高于同行业可比公司平均水平。招股书显示，中微公司的研发费用占各期营业收入的比重为7.21%、12.005%、14.55%、14.25%；芯源微为16.29%、16.45%、13.81%、12.04%；盛美股份为14.43%、13.12%、13.97%；华海清科为88.63%、21.32%、13.10%，平均值为31.64%、15.72%、13.86%、13.14%。

截至2021年3月31日，拓荆科技的科研人员142人，占员工总数的43.56%，其中海外技术专家及高端技术人才十余人。

此次，拓荆科技IPO募集资金将继续加大对研发的投入。拓荆科技将投资39,948.34万元进行先进半导体设备的技术研发与改进项目，其中，设备购置8052.02万元，研发费用31113.02万元，基本预备费783.30万元。另将投资27094.85万元进行ALD 设备研发与产业化项目，其中工程建设费9969.93万元，设备购置2217.05万元，研发费用13204.20万元，基本预备费507.83万元，铺底流动资金1195.84万元。

若此次拓荆股份成功登陆科创板，其研发能力将进一步加强。拓荆股份在招股书中表示，报告期内，公司持续不断的研发投入，使得公司产品日益成熟，客户认可度逐年提高，公司营业收入高速增长。2018至2020年研发费用占营业收入的比例逐年降低，公司的亏损也逐年收窄，盈利能力逐步改善。

PECVD为主要产品

拓荆科技主要业务收入来源于PECVD设备、ALD设备和 SACVD设备销售收入，其他业务收入主要来源于设备有关的备品备件销售及技术服务。

其中，PECVD设备的销售收入为公司主营业务收入的最主要来源，报告期内占主营业务收入比重分别为77.98%、100%、97.55%和100%。

拓荆科技表示，2018-2020年，公司主营业务收入快速增长，主要是由于PECVD产品收入高速增长。

拓荆科技PECVD设备推出较早，产品线较为丰富，下游市场应用广阔，国内市场成熟。而ALD、SACVD 均处于产品发往不同客户端进行产线验证的市场开拓阶段，形成批量销售需经过不同客户的验证，周期存在不确定性。

ALD 设备系集成电路先进制程晶圆制造的关键设备，晶圆制造产线制程越先进，对于ALD、SACVD设备数量的需求越多。我国集成电路制造产业起步较晚，晶圆制造产线制程与国际先进水平相比较为落后，先进制程产线处于发展建设阶段，具备先进制程晶圆制造能力的厂商较少。如果国内先进制程晶圆制造产线发展不及预期，市场对 ALD、SACVD设备的需求增长较小，拓荆科技ALD及SACVD设备未来销售增长将受到限制。

行业方面，国内半导体设备厂商存在互相进入彼此业务领域，开发同类产品的可能。例如，在ALD设备领域，除拓荆科技外，北方华创、盛美股份、屹唐股份及中微公司已推出自产设备或有进入ALD设备市场的计划。

同时，半导体设备行业具有很高的技术壁垒、市场壁垒和客户准入壁垒。目前公司的竞争对手主要为国际知名半导体设备制造商，与中国大陆半导体专用设备企业相比，国际巨头企业拥有客户端先发优势，产品线丰富、技术储备深厚、研发团  队成熟、资金实力较强等优势，国际巨头还能为同时购买多种产品的客户提供捆绑折扣。

2019 年度，在CVD设备全球市场中，应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam）、东京电子（TEL）的市场占有率分别为30%、21%和 19%；在ALD设备全球市场中，东京电子（TEL）、先晶半导体（ASMI）的市场占有率分别为 31%和 29%。相比国际巨头，拓荆科技的综合竞争力处于弱势地位，市场占有率较低。

值得注意的是，拓荆科技在招股书中表示，根据已发出机台和在手订单情况，经初步测算，公司预计能在2021年度完成40台以上薄膜沉积设备的销售，实现营业收入5.5亿元以上，并在当年实现盈利。

产品验收、交付时间长

不过，《商讯·公司金融》注意到，在持续亏损的情况，拓荆科技的存货量也是在持续增加。

招股书显示，报告期各期末，拓荆科技的存货余额分别为33052.11万元、35782.99万元、52381.17万元、65935.62万元，占流动资产的比例分别为47.61%、41.78%、32.55%和38.98%。

存货中，发出商品是最主要的组成部分。报告期各期末，拓荆科技发出商品账面余额分别为17016.48万元、23503.18万元、36746.35万元、46148.64万元，占存货余额的比例分别为51.48%、65.68%、70.15%和69.99%。拓荆科技的账面余额较高且在报告期内随业务发展逐年增加。

究其原因，招股书显示，拓荆科技的薄膜沉积设备产品进入市场需要经历较长的验证过程。在生产阶段主要根据客户的差异化需求和采购意向，进行定制化设计及生产制造。在产品交付后需要安装调试并运行一段时间后，客户才能完成验收。如果未来这些发出商品在客户端试运行未能验收通过而被退回，可能导致存货积压，以及出现补充计提存货跌价准备的情况，从而影响其流动资金及盈利水平。

另外，拓荆科技还存在产量大于销量的问题。报告期内，拓荆科技PECVD的产量分别为9台、22台、50台、14台，销量分别为4台、19台、31台、4台，产销量分别为44.44%、86.36%、62.00%、28.57%；ALD仅在2018年销售1台，2020年生产1台；SACVD的产量分别为0台、1台、3台、2台，在2020年销售出1台。这或与营收确认的时点有关。